एल्यूमीनियम ऑक्सीकरण में प्राकृतिक ऑक्सीकरण, विद्युत रासायनिक ऑक्सीकरण, रासायनिक ऑक्सीकरण, क्षारीय ऑक्सीकरण, एसिड ऑक्सीकरण और एनोडिज़ेशन होता है। यह एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु के ऑक्सीकरण उपचार का मतलब है। आज, मैं इलेक्ट्रोलिसिस प्रक्रिया पर एल्यूमीनियम इलेक्ट्रोलिसिस में उत्पन्न कार्बन लावा के प्रभाव के बारे में बात करूंगा।
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जिससे वर्तमान वायु की खपत होती है
जब कार्बन अवशेषों की एक बड़ी मात्रा एल्यूमीनियम इलेक्ट्रोलाइट पिघल की सतह पर तैरती है, तो कार्बन अवशेष का एक हिस्सा कार्बन एनोड और साइड या कैथोड का प्रवाहकीय मार्ग बन जाता है, और वर्तमान का एक हिस्सा कैथोड या साइड में सीधे प्रवेश करता है कार्बन अवशेषों के माध्यम से, और पक्ष भाग बनाने के लिए इलेक्ट्रोलाइटिक प्रतिक्रिया में भाग नहीं ले सकते। रिसाव, वर्तमान खपत, गंभीर रूप से पक्ष रिसाव का कारण होगा।
1. एक लंबे पैकेज है
चूंकि कार्बन स्लैग एक बड़ी मात्रा में जमा होता है और इसे समय पर साफ नहीं किया जा सकता है, एल्यूमीनियम प्रोफ़ाइल इलेक्ट्रोलाइटिक सेल या लंबे दांतों के कोने या किनारे को प्रेरित करने के लिए आसान है, जिससे इलेक्ट्रोलाइटिक सेल का वोल्टेज दोलन या खांचे में बदल जाता है।
2. प्रेरित एनोड प्रभाव
इलेक्ट्रोलाइट की सतह पर कार्बन अवशेषों की एक बड़ी मात्रा तैरती है, जिससे एल्यूमिना समय में इलेक्ट्रोलाइट में भंग नहीं होता है, जिससे एनोड प्रभाव उत्पन्न होता है।
3. श्रमिकों की श्रम तीव्रता में वृद्धि
जब इलेक्ट्रोलाइट में कार्बन अवशेषों की सामग्री बहुत बड़ी है, तो श्रमिकों को उबारना चाहिए। कार्बन अवशेषों का निस्तारण न केवल इलेक्ट्रोलाइट और गर्मी की एक बड़ी मात्रा को दूर करता है, बल्कि इलेक्ट्रोलाइटिक सेल की स्थिरता को भी प्रभावित करता है और फ्लोराइड नमक की खपत को बढ़ाता है। जब कार्बन स्लैग को उबारना होता है, तो कार्बन अवशेषों की वसूली की सुविधा के लिए इलेक्ट्रोलाइज़र के विभिन्न हिस्सों में छेद ड्रिल किए जाने चाहिए, और श्रमिकों का श्रम भार स्पष्ट रूप से बढ़ जाता है।
ऑक्साइड फिल्म के पहनने के प्रतिरोध पर इलेक्ट्रोलाइट के तापमान का काफी प्रभाव पड़ता है। आमतौर पर, यदि तापमान कम हो जाता है, तो एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु के एनोडाइज़्ड फिल्म के पहनने का प्रतिरोध बढ़ जाता है, जो फिल्म को इलेक्ट्रोलाइट के विघटन दर के कम होने के कारण होता है। उच्च कठोरता की ऑक्साइड फिल्म प्राप्त करने के लिए। हमें कठिन ऑक्सीकरण उपचार के लिए master 2 ° C की सीमा में तापमान को मास्टर करना चाहिए
